Поверхностная ионизация, термическая десорбция (испарение) положительных (положительная Поверхностная ионизация) или отрицательных (отрицательная Поверхностная ионизация) ионов с поверхностей твёрдых тел. Чтобы эмиссия ионов при Поверхностная ионизация была стационарной, скорость поступления на поверхность соответствующих ионам атомов, молекул или радикалов (за счёт диффузии этих частиц из объёма тела или протекающей одновременно с Поверхностная ионизация адсорбции) должна равняться суммарной скорости десорбции ионов и нейтральных частиц. Поверхностная ионизация происходит и при собственном испарении твёрдых тел, например тугоплавких металлов.

  Количественной характеристикой Поверхностная ионизация служит степень Поверхностная ионизация a= n_i/n₀, где n_i и n₀ — потоки одновременно десорбируемых одинаковых по химическому составу ионов и нейтральных частиц. n_i = CN exp (—l_i/kT), a n₀ = DNexp (—l₀/k T), здесь k — Больцмана постоянная, T — абсолютная температура поверхности, l_iи l₀ — теплоты десорбции в ионном и нейтральном состояниях, N — концентрация частиц данного сорта на поверхности, а коэффициенты С и D слабо (в сравнении с экспонентами) зависят от Т. Отсюда a = .

  Взаимодействие частиц с поверхностями отображают кривыми типа показанной на рис. 1. Переход с кривой для нейтральных частиц А на кривую для ионов А⁺ на расстоянии х®¥ от поверхности соответствует ионизации частицы с переводом освободившегося электрона в твёрдое тело. Требуемая для этого энергия равна e (V—j); V — ионизационный потенциал частицы, еj — работа выхода тела, е — заряд электрона. Выражение a через эти величины приводит к Ленгмюра — Саха уравнению, причём для положительной Поверхностная ионизация (l_i+ — l₀) = e (V —j), а для отрицательной Поверхностная ионизация (l_i— l₀) = е (j—S), где eS — энергия сродства к электрону частицы. Поверхностная ионизация наиболее эффективна (a велико) для частиц с l_i< l₀ или j > V и S >j; a для них уменьшается с ростом Т. При обратных неравенствах Поверхностная ионизация усиливается с возрастанием Т (рис. 2). l_i и l₀ зависят от N — обычно l_iрастет, а l₀падает с увеличением N. Если при Т > Т₀ соблюдается условие эффективной Поверхностная ионизация (l_i< l₀и n_i >> n₀), то при Т = Т₀знак (l₀ — l_i) меняется, а a начинает скачкообразно падать до малых значений. Т₀ называется температурным порогом Поверхностная ионизация

Рис. 1. Потенциальные кривые взаимодействия систем поверхность твёрдого тела — нейтральная частица (А) и поверхность — положительный ион (А⁺); х — удаление от поверхности; U(x) — энергия связи частицы с поверхностью. Расстояние х_р соответствует равновесному состоянию частицы у поверхности, а глубины «потенциальных ям» l_i и l₀ равны теплотам десорбции иона и нейтральной частицы соответственно. Разность l_i—l₀ в данном случае равна разности энергии ионизации eV нейтральной частицы (V — её ионизационный потенциал, е — заряд электрона) и работы выхода поверхности ej.

Рис. 2. Характерные зависимости степени поверхностной ионизации a в стационарных процессах от температуры T: 1 — для случая, когда теплота десорбции иона l_i, меньше теплоты десорбции нейтральной частицы l₀; 2 — в случае, когда l_i>l₀. T₀ — температурный порог поверхностной ионизации.

  Внешнее электрическое поле Е, ускоряющее ионы с поверхности, снижает величину l_i. При E < 10⁷в/см это снижение Dl = е = 3,8×10^-4 эв (E должно быть выражено в в/см). Соответственно растет a. Если l_i< l₀ и n_I > n₀, Е при стационарной Поверхностная ионизация уменьшает N и T₀. Так, T₀ для атомов Cs на W с 1000 К при Е = 10⁴в/см снижается до 300 °K при Е = 10⁷ в/см. Это даёт основание рассматривать явления десорбции и испарения ионов электрическим полем при низких Т как Поверхностная ионизация Современная экспериментальная техника позволяет наблюдать Поверхностная ионизация частиц с V £ 10 в и S ³0.6 в. С помощью электрического поля эти пределы могут быть существенно расширены.

  Приведённые выше закономерности Поверхностная ионизация справедливы (подтверждены опытом) для однородных поверхностей. Однако на практике чаще приходится иметь дело с неоднородными поверхностями. на которых l₀, l_i,j и N неодинаковы на различных участках. В таких случаях указанные зависимости a от Т и Е сохраняются для некоторых усреднённых значений l₀, l_i и j.

  Поверхностная ионизация широко используется в ионных источниках различного назначения, в чувствительных детекторах частиц, для компенсации объёмного заряда электронов в термоэлектронных преобразователях, перспективна для создания плазменных двигателей, а также лежит в основе многих методов изучения физико-химических характеристик поверхностей твёрдых тел и взаимодействующих с ними частиц.

 

  Лит.: Зандберг Э. Я., Ионов Н. И., Поверхностная ионизация, М,, 1969.

  Н. И. Ионов.